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鈮酸鋰晶體常見三種制備方法

  鈮酸鋰晶體常見三種制備方法

  鈮酸鋰晶體有兩個特點非常受關(guān)注,一是鈮酸鋰晶體光電效應(yīng)多,具備包括壓電效應(yīng)、電光效應(yīng)、非線性光學效應(yīng)、光折變效應(yīng)、光生伏打效應(yīng)、光彈效應(yīng)、聲光效應(yīng)等幾種光電性能;二是鈮酸鋰晶體的性能可調(diào)控性強,它是由鈮酸鋰晶體的晶格結(jié)構(gòu)和豐富的缺陷結(jié)構(gòu)所導致,鈮酸鋰晶體的諸多性能可以從晶體組分、元素摻雜、價態(tài)控制等進行大幅度調(diào)控。

  鈮酸鋰晶體的制備

  (1)同成分鈮酸鋰晶體

  針對同成分鈮酸鋰晶體來講,其制備大多采用提拉法。雖然泡生法、導模法、溫梯法等方法也曾用來進行鈮酸鋰晶體的制備,但和提拉法對比并沒有明顯優(yōu)勢以及具有明確的業(yè)務(wù)需求,因此并未得到廣泛的關(guān)注。

  (2)近化學計量比鈮酸鋰晶體

  近化學計量比鈮酸鋰晶體雖然具備諸多優(yōu)秀的光電性能,但其配比偏離固液同成分共熔點,沒法采用常規(guī)提拉法生長高質(zhì)量晶體,目前大多采用的制備方法有富鋰熔體法、助熔劑法、擴散法。

  (3)鈮酸鋰單晶薄膜

  鈮酸鋰單晶薄膜可以運用在光波導、聲學器件等微納結(jié)構(gòu)及其制備硅基等混合集成器件等多個方面,人們老早就開始探索鈮酸鋰單晶薄膜的制備,不過真正得到應(yīng)用的方法只有“離子切片”(IonSlicing)技術(shù),目前已實現(xiàn)了商品化,可以提供厚度為300~900nm的單晶薄膜產(chǎn)品。

  現(xiàn)階段,鈮酸鋰晶體生產(chǎn)技術(shù)成熟,領(lǐng)先企業(yè)市場份額占比較高。在全球市場中,德國愛普科斯、日本住友、德國KorthKristalle是市場份額排名前三的鈮酸鋰生產(chǎn)企業(yè)。

  光寶光電作為一家專注激光晶體的服務(wù)商,公司專業(yè)從事激光元器件的研發(fā)和生產(chǎn),主要產(chǎn)品為激光晶體、激光光學和激光器件。公司具有晶體生長、光學拋光、激光鍍膜和器件封裝的專業(yè)能力,并擁有良好的產(chǎn)品生產(chǎn)和質(zhì)量控制經(jīng)驗,可以為激光用戶提供穩(wěn)定可靠的產(chǎn)品。

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